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http://hdl.handle.net/11298/803
Título : | ¿Considerando la dependencia que de la inversión tiene el crecimiento, cual es el perfil ideal de un ambiente para incrementar la inversión? |
Autor : | Universidad Tecnológica de El Salvador |
Palabras clave : | INVERSIÓN RECURSOS INTERNOS Y EXTERNOS EL SALVADOR |
Fecha de publicación : | 31-ago-2004 |
Editorial : | Universidad Tecnológica de El Salvador, Revista Entorno |
Citación : | Universidad Tecnológica de El Salvador, U. (2004). ¿Considerando la dependencia que de la inversión tiene el crecimiento, cual es el perfil ideal de un ambiente para incrementar la inversión?. Entorno, (31). Recuperado de http://biblioteca.utec.edu.sv/entorno/index.php/entorno/article/view/452/444 |
Citación : | Entorno ; no. 31 |
Resumen : | Entrevistados: Héctor Dada Hirezi (Diputado CDU), Jorge Barraza Ibarra (UTEC), Javier Ibizate (UCA), Carlos Briones (FLACSO), Rafael Rodríguez Loucel (UTEC), Roberto Rubio (FUNDE). Aprovecho la oportunidad enfatizar la necesidad que se tiene de armonizar los esfuerzos de estabilización que regulan la demanda con los de reactivación de oferta. Habría que destinar, entonces, los recursos internos y externos a "invertir" y "producir" que es lo que en definitiva podría evitar más presiones inflacionarias, más endeudamiento gubernamental, más déficit fiscal y en definitiva propiciar un crecimiento económico sostenido con estabilidad financiera. Acciones concretas para propiciar un clima propicio de inversiones son la ley de competencia, la seguridad ciudadana, la seguridad jurídica, la garantía de los derechos humanos, igualdad de oportunidades, apoyo decidido a la integración regional, un crecimiento equilibrado devolviéndole la rentabilidad a la agricultura, la instauración de un estado de derecho, continuar con los esfuerzos de desarrollo de infraestructura vial y portuaria e implementar mecanismos preventivos correctivos para la erradicación de la violencia. |
URI : | http://hdl.handle.net/11298/803 |
Aparece en las colecciones: | Artículos de revistas UTEC |
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